電子ビーム蒸着はヒーター加熱では難しいとされる材質を蒸発させることが出来ます。電子ビームを加速させて材料に当てることにより材料の温度を高め蒸発させるのです。このような方法で材料を3000℃以上の温度まで加熱させることが出来ます。このミニ電子ビーム蒸着装置は低フラックスで蒸着レートをコントロールすることが出来ます。 また汚染物質の生成が起こりにくいので表面科学や薄膜形成のような非常に繊細なアプリケーションにも有効です。つまりミニ電子ビーム蒸着源は汚染物質の軽減と精密な蒸着レートのコントロールを目的として製作されています。

• 4個の独立ポケットにより4種類の材料を個別蒸着、同時蒸着が可能
• PCにより4元素を完全独立制御
• 蒸着ソースヘッドの直接冷却により不純物発生を軽減
• フラックスモニタリングプレートを標準装備
• 蒸着ソースヘッドの配線がユーザーにより交換可能
• 材料装填はロッド、クルーシブル両方が使用可能
• 真空内ソース長を100〜200mmの範囲で仕様変更可能
• ICF70（外径70mm）取付フランジによる簡便