ナノクラスター薄膜形成装置
Mantis Deposition社は将来の研究に配慮した広範囲の要求に応じた薄膜形成装置を立案・設計しています。ナノクラスターによる薄膜形成は、古い薄膜形成技術ではなしえなかった薄膜の特性までを考慮した薄膜形成方法です。
NanoSystem500（標準装置）
薄膜形成室
- 1-1 球形UHVチャンバー
- 1-2 真空排気系
- 1-2-1 主排気 500L/秒 ターボポンプ
- 1-2-2 背圧排気 スクロールドライポンプ
- 1-3 ポート
- 3 X NW200CF
- 1 X NW150CF
- 2 X NW100CF
- 4 X NW63CF
- 7 X NW35CF
- 1-4 膜圧計（オプション）
ナノクラスターソース
- 2-1 真空排気系
- 2-1-1 差動排気 300L/秒 ターボポンプ
- 2-1-2 背圧排気 スクロールドライポンプ（共用）
基板導入室（オプション）
- 3-1 ゲートバルブ
- 3-2 ヒンジドア
- 3-3 トランスファーロッド
- 3-4 真空排気系 70L/秒 ターボポンプ
基板操作機構
- 4-1 Z軸移動機構 25mm
- 4-2 基板サイズ 2インチ
- 4-3 回転速度 50rpm
- 4-4 基板温度 〜800℃
その他
- 5-1 19インチラック
- 5-2 ベイク機構
Nanogen50
| 取付フランジ | NW150CF（外径203mm） |
|---|---|
| クラスター粒子サイズ | 1〜15nm（材料による） |
| クラスター粒子の精度 | ±5%（流量・入力で変動） |
| 蒸着レイト | 6Å/秒（最大） |
| ガス流量 | 5〜100sccm Ar/He |
| 冷却方式 | 水・液体窒素 |
MesoQ In-line
| 取付フランジ | NW150CF（外径203mm） |
|---|---|
| 質量分解能 | 〜2% |
| 質量範囲 | 2〜106amu |
| PCインターフェイス | A/D（ソフトウエアを含む） |